每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：可否介紹一下產(chǎn)品薄膜沉積設(shè)備應(yīng)用？

國(guó)林科技（300786.SZ）5月26日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司目前研制的高濃度臭氧氣體發(fā)生器設(shè)備可用于薄膜沉積工藝的氧化成膜，傳統(tǒng)的薄膜沉積制成方法有三種：PVD、CVD、ALD，PVD屬于物理方法，CVD、ALD主要利用臭氧通過化學(xué)反應(yīng)在硅片表面形成薄膜保護(hù)。

(記者 王可然)

免責(zé)聲明：本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考，不構(gòu)成投資建議，使用前核實(shí)。據(jù)此操作，風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。